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    特种玻璃是高技术领域中不可缺少的材料，特别是光电子技术开发的基
础材料。通讯光纤已经作为实现通讯技术革命的土角，在现行的信息高速公
路中起着其他材料无法起到的作用。如光导玻璃纤维可用于照明光源或配
合各种光学传感元件的光导管、工业及医用内窥镜、“光刀”等。而用在光通
讯方面，与同轴电缆的微波通讯系统柏比，它具有抗电磁干扰、尺寸小、重量
轻、耐辐射和易于铺设等优点。因此光导玻璃纤维已成为近代光通讯的基
础。在今后的几年内，激光玻璃、功能光纤、光记忆玻璃、集成电路( lC)光掩
模板、光集成电路用玻璃，以及电磁、磁光、光电、声光、压电、非线性光学玻
璃、高强度玻璃及牛物化学等功能玻璃都将有大幅度的发展。
    为了获得具有特殊功能的玻璃，或者使玻璃的某些特性更为突出，除了
传统的熔融法以外，必须采用一些特殊的玻璃形成方法。如按不同聚集形态
的物质luJ玻璃转变来分类，有代表性的玻璃形成方法有以下几种。
    (1)气相沉积法。通过气相制作玻璃态方法丰要有真空蒸发法、阴极溅
射法及化学气相沉积法等几种。
    ①真空蒸发法。少量样品在真空条件下通过加热或电了束轰击而蒸发

气相，然后使之在冷却的衬底上冷凝成无定形薄膜。一般而言，该基础材
料的组成、真空蒸发系统、基板温度等冈素均将影响膜的结构组成。该方法
的优点是无污染，能涂金属、氧化物等多种材料。
    ②阴极溅射法。此法利用阴极电子或惰性气体原子或离子束轰击近阴
极的金属和氧化物靶，使之溅射到衬底上，经冷却而成无定形材料。近年来
在此方法的基础，卜义发展了一种反应溅射法，即溅射后在基板-卜．和氧气进行
反应后形成氧化物无定形薄膜（如Pb0 - Te02，Pb0 - Si02膜等）。
    溅射法粒子的能量( lOeV)高于真窄蒸发法（能量仅O.leV），故膜层附着
力强且致密，适用于不易蒸发的材料，其缺点是效率不够高。
    ③化学气相沉积法( CVD)。这种方法利用气态物质在固体表面进行化
学反应生成固态沉淀物，作为一种反应产物凝结在衬底上且仍然保持远程无
序的结构状态。当然，反应接近或就在衬底表而发生，而彳<应该在气相下发
生。该方法应用的条件为：反应剂在室温或彳<太高温度下呈气态或蒸气压较
高，且纯度高；能形成所需要的沉积层而其他反应产物易挥发；工艺上重现性
好，成本低。
    CVD法制备的涂层粘附性好，内应力小且均匀。与上述万法相比，CVD
法工艺简甲．，经济实用。到目前为止，用CVD法制备的玻璃态材料有半导体
工业中的玻璃态电绝缘材料Si3 N4和导电的Si3 N4 -C，S13 N4 - SiN，Si3 N4 - AIN
等复合玻璃态材料；有用于硼扩散源的玻璃态BN以及具有导电性、化学稳
定性且质地坚硬的玻璃态硼化物Ti -B、烈-B、Zr -B等以及磷硅玻璃膜
(P205 Si02)等法。
    (2)熔体冷却法。用熔体冷却法制作玻璃态物质，其远程无序结构是由
加热熔化的方法获得的。牟于能禽保持其远程无序结构，则取决于熔体达到
过冷状态的倾向大小，即取决于熔点以下熔体过冷而不致引起成核和结晶的
能力。显然，只有那些过冷程度很大而不析晶的液体，才可能成为玻璃。利
用高速冷却熔体方法可以使金属、合金或一些离子化合物成为玻璃态。有人
研究了用机械式高速旋转进行喷吹，然后冲击冷却的板而，也可以利用离心
力将熔融金属液喷射在冷却的板面．卜，这种冷却方法得到的冷却速度可以是
传统熔体冷却法的20~30倍以上。活塞一砧法（或称为锤一砧法）则将熔融

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